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中微公司发布用于深紫外LED量产的MOCVD设备Prismo HiT3™

2020-07-30 22:39 来源: 站长资源平台 编辑: 佚名 浏览(605)人   

中微半导体设备(上海)股份有限公司,今日宣布推出Prismo HiT3™ MOCVD设备,主要用于深紫外LED量产。该设备目前已进入全球大多数领先的蓝绿光LED制造商,此次推出的Prismo HiT3™是中微Prismo系列MOCVD设备的最新产品。是适用于高质量氮化铝和高铝组分材料生长的关键设备,反应腔最高温度可达1400度,具有优异的工艺重复性、均匀性和低缺陷率。该设备同时也为高产量而设计,单炉可生长18片2英寸外延晶片,并可延伸到生长4英寸晶片。(科创板日报)

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